Deposition Process

증착 공정

증착은 웨이퍼 위에 절연막, 금속막, 반도체막을 원하는 두께와 품질로 쌓는 공정입니다. 막의 균일도와 계면 품질은 식각, CMP, 배선 공정의 안정성을 결정합니다.

왜 중요한가

증착은 웨이퍼 위에 절연막, 금속막, 반도체막을 원하는 두께와 품질로 쌓는 공정입니다. 회로가 입체 구조로 만들어지려면 막의 균일도와 계면 품질이 안정적으로 유지되어야 합니다.

핵심 개념

  • CVD는 화학 반응, PVD는 물리적 증착, ALD는 원자층 단위 제어가 핵심입니다.
  • 두께, 균일도, Step Coverage, 막질은 소자 성능과 수율에 영향을 줍니다.
  • 증착 이후 식각, CMP, 배선 공정과 연결해 봐야 공정 흐름이 완성됩니다.

실무와 다음 학습

증착은 recipe 조건, chamber 상태, precursor 관리가 중요합니다. 공정 엔지니어는 막 품질을 해석하고, 장비 엔지니어는 진공·가스·온도·플라즈마 안정성을 관리합니다.