왜 중요한가
리소그래피는 회로 패턴을 웨이퍼 위에 빛으로 전사하는 공정입니다. 이후 식각이나 이온주입이 따라갈 기준선을 만드는 단계라서 미세화와 수율을 이해할 때 가장 먼저 잡아야 합니다.
Photo Lithography
포토공정과 리소그래피
리소그래피는 회로 패턴을 웨이퍼 위에 전사해 이후 식각, 이온주입, 증착 공정이 따라갈 기준을 만드는 핵심 공정입니다. 미세화, 수율, 장비 성능을 함께 이해할 때 반도체 공정의 큰 그림이 선명해집니다.
핵심 흐름
- 감광액 도포 → 정렬 → 노광 → 현상 → 검사 순서로 패턴을 만듭니다.
- CD, Overlay, Focus, Dose는 선폭과 정렬 오차를 좌우합니다.
- DUV와 EUV 노광은 해상도, 공정 비용, 장비 복잡도에서 차이가 큽니다.
실무와 다음 학습
노광 장비, 계측 장비, 공정 조건 최적화, 결함 분석과 직접 연결됩니다. 포토공정을 이해했다면 식각과 증착, 계측 장비를 이어서 보면 패턴이 실제 구조로 바뀌는 흐름을 더 쉽게 잡을 수 있습니다.